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產(chǎn)品詳細(xì)頁環(huán)保電感耦合光譜儀廠家
- 產(chǎn)品型號(hào):ICP-9660
- 更新時(shí)間:2023-12-07
- 產(chǎn)品介紹:環(huán)保電感耦合光譜儀廠家 ICP光譜分析儀(ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè),可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。
- 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
- 在線留言 86-1867-8805696
產(chǎn)品介紹
品牌 | 精測(cè) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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儀器種類 | 順序掃描 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,印刷包裝,電氣,綜合 |
環(huán)保電感耦合光譜儀廠家
環(huán)保電感耦合光譜儀廠家
ICP是光譜儀,全稱:電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 “等離子體光電直讀光譜儀"。 ICP光譜儀是當(dāng)前光譜分析中最迅速非常靈敏的一種儀器。
ICP光譜分析儀(ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè),可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。
ICP是光譜儀是將復(fù)色光分解為光譜,并進(jìn)行記錄的精密光學(xué)儀器。在可見光和紫外光區(qū)域,過去常用照相法記錄光譜,故也稱攝譜儀。在紅外區(qū)域,一般用光敏或熱敏元件逐點(diǎn)記錄,故有紅外分光計(jì)的名稱。
現(xiàn)在在各個(gè)波段均采用光電接收和記錄的方法,比較直接、靈敏,稱為“光電記錄光譜儀"。為了得到更多的光譜線,可以把被分析物質(zhì)放在等離子體火焰中激發(fā),在光譜儀中除采用光電接收方法外,還配有專用計(jì)算機(jī),計(jì)算物質(zhì)中各元素含量??梢栽跀?shù)秒種內(nèi)從顯示器的熒光屏讀出結(jié)果。
這種儀器可以說是速度和精度的非常好的結(jié)合,儀器優(yōu)勢(shì)
1、化學(xué)干擾少,測(cè)試結(jié)果更加精準(zhǔn)。
2、測(cè)試元素多,最多可測(cè)70余種元素。
3、檢出限低,絕大多數(shù)元素可達(dá)pb級(jí)。
4、多元素同時(shí)測(cè)試,一次進(jìn)樣所有元素同時(shí)測(cè)試。
5、分析速度快,每分鐘約5個(gè)元素,最快測(cè)試速度可到每分鐘10個(gè)元素。
6、線性范圍寬,可達(dá)5-6個(gè)數(shù)量級(jí),可以實(shí)現(xiàn)高低含量同時(shí)測(cè)試,無需更換標(biāo)準(zhǔn)曲線。
技術(shù)參數(shù):
1、輸入電源:電壓交流220V,電流20A。
2、采用Czerny Turner型光路,焦距為1000mm。
3、離子刻蝕全息光柵,刻劃面積(80×110)mm。
4、全自動(dòng)一鍵點(diǎn)火,自動(dòng)匹配,點(diǎn)火穩(wěn)定、便捷。
5、采用同心圓霧化器搭配旋流霧室,1ppmMn強(qiáng)度>1000000cps。
6、分辨率(Mn257、610nm):≤0、005nm(4320刻線光柵);
≤0、008nm(3600刻線光柵);
≤0、015nm(2400刻線光柵);
7、波長(zhǎng)范圍:190-460nm(4320刻線光柵);
190-500nm(3600刻線光柵);
190-800nm(2400刻線光柵);
8、自主研發(fā)全固態(tài)射頻電源,輸出功率800-1600W,連續(xù)可調(diào),電源效率大于65%,工作頻率27、12MHz,頻率穩(wěn)定性<0、05%,功率輸出穩(wěn)定性<0、05%。
光柵刻線光柵:2400刻線光柵:3600刻線光柵:4320刻線
波長(zhǎng)范圍190nm-800nm190nm-500nm190nm-420nm
示值誤差±0.03nm±0.03nm±0.03nm
重復(fù)性≦0.005nm≦0.005nm≦0.005nm
光譜帶寬Mn 257.610nmMn 257.610nmMn 257.610nm
半高寬≦0.030nm半高寬≦0.015nm半高寬≦0.007nm
檢出限/(ug/L)Zn(213.856nm)≦ 3.0Zn(213.856nm)≦ 3.0Zn(213.856nm)≦ 3.0
Ni(231.604nm)≦ 10.0Ni(231.604nm)≦ 10.0Ni(231.604nm)≦ 10.0
Mn(257.610nm)≦ 2.0Mn(257.610nm)≦ 2.0Mn(257.610nm)≦ 2.0
Cr(267.716nm)≦ 7.0Cr(267.716nm)≦ 7.0Cr(267.716nm)≦ 7.0
Cu(324.754nm)≦ 7.0Cu(324.754nm)≦ 7.0Cu(324.754nm)≦ 7.0
Ba(455.403nm)≦ 1.0Ba(455.403nm)≦ 1.0Ba(455.403nm)≦ 1.0
重復(fù)性3號(hào)溶液 RSD≤1.5%3號(hào)溶液 RSD≤1.5(%)3號(hào)溶液 RSD≤1.5(%))
穩(wěn)定性3號(hào)溶液 RSD≤2%3號(hào)溶液 RSD≤2%3號(hào)溶液 RSD≤2%
三、 產(chǎn)品規(guī)格與技術(shù)指標(biāo)
1、固態(tài)電源
(1)工作頻率:27.12MHz
(2)頻率穩(wěn)定性:<0.05%
(3)匹配方式:自動(dòng)匹配
(4)輸出功率:800W~1600W,連續(xù)可調(diào),電源效率大于65%
(5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.05%
(6)輸出工作線圈內(nèi)徑25mm、3匝,配三同心外徑20mm的石英炬管
(7)同軸型噴霧器外徑6mm;旋流型霧化室
2、掃描分光器
(1)光路: Czerny turner型;
(2)焦距:1000mm
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度4320L/mm或3600L/mm或2400L/mm;
(4)刻劃面積(80x110)mm
(5)分辨率:s0.008nm(3600線光柵);s0.015nm(2400線光柵)0.005nm(4320線光柵)
(6)掃描波長(zhǎng)范圍:190-460nm(4320L/mm光柵);3600線光柵:(190~500)nm;2400
(7)線光柵:(190~800)
3、電子測(cè)量及控制電路
(1)光電倍增管規(guī)格:R212/R928;
(2)光電倍增管負(fù)高壓:(-50~-1000)V;
(3)光電倍增管電流測(cè)量范圍:(10-12~10-4)A;
(4)信號(hào)采集:VF轉(zhuǎn)換
(5)顯示器:17英寸液晶顯示器;